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低辐射玻璃薄膜制备技术

低辐射镀膜玻璃的薄膜制备技术主要有离线镀膜技术如溅射法、真空蒸镀法、溶胶-凝胶法, 以及在线镀膜技术如电浮法、喷涂法和化学气相沉积法等,其中有些方法离线在线都可以使用, 例如喷涂法、化学气相沉积法、热电解法。低辐射镀膜具有很好的节能性能,对节能减排具有重 大的贡献,其研究的最终目的是为了应用到日常生活中,所以其制备成本不能高。离线生产的低 辐射镀膜玻璃性能较优越,但是其生产成本比在线生产的制备法高很多。表20-8对化学气相沉 积法、磁控溅射法、溶胶凝胶法和热喷涂法进行了比较。离线与在线制备方法只是对薄膜的生产 成本有影响,对薄膜质量的影响还要考虑制备方法的具体参数。同是在线镀膜生产技术,化学气 相沉积和热喷涂所制备的Sn02膜和掺杂Sn02膜的性能就不一样,见表20-9。目前工厂生产低 辐射镀膜玻璃主要是两种方式:在线高温热解沉积法(CVD)和离线真空溅射法。美国有多家 公司的产品就是采用在线高温热解沉积法,如PPG公司的Surgate200,福特公司的Sunglas H. R “P”;而北美的英特佩公司的“LnplusNetetralR”,PPG公司的SimgatelOO ,福特公司的Sim- glasHRS等采用溅射法。

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